EUV光源厂商Ushio从Gigaphoton撤资
日本小松公司（Komatsu）与Ushio公司近日决定终止两家公司有关EUV光刻机光源合资厂商Gigaphoton项目的合资合同。小松将从Ushio公司手中收购Gigaphoton余下的50%股份，这样Gigaphoton将成为小松的独资公司。http://static.cnbetacdn.com/upimg/110427/dryiceboy_071046334867823.jpg
Gigaphoton的光源技术发展规划图
Gigaphoton原为小松和Ushio各占50%股份的合资公司,这家公司于2000年8月份成立，主要业务是开发，制造和销售光刻机用准分子激光器光源，并为顾客提供服务，同时还有研发制造248nm/193nm（干式/液浸式系统）光刻机。
目前为EUV光刻机开发光源的厂商主要包括Cymer，Gigaphoton, Ushio等几家。其中Gigaphoton的主要研究方向是LPP型光源，即激光式等离子光源；而Ushio则主要致力于DPP光源即放电式等离子光源的研发。相比之下，另外一家EUV光源厂商Cymer的主要研究方向也是LPP型光源。
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LPP光源的原理是采用激光束加热工质生成等离子体，而DPP则采用电脉冲的方式来加热工质生成等离子体。
而现在Ushio从Gigaphoton中撤资，这样一来，两家公司就要从原来的相互合作关系变成相互竞争的关系。
去年，Ushio公司收购了皇家飞利普电子公司的EUV光源业务部门，飞利浦公司已经将旗下的EUV光源业务全部转交给其设在日本的EUV光源研发公司 Xtreme Technologies。自2008年起，Xtreme Technologies便一直在与飞利浦进行EUV光源技术方面的合作。
2005年，Ushio收购了Xtreme公司50%的股份，08年，这家公司开始与飞利浦共同研究EUV光源技术，同年，Ushio收购了Xtreme剩余的股份，将其变成自己全资控股的子公司。
EUV光刻目前是下一代光刻技术的首选，不过由于在光源，光阻胶，掩模技术以及量检测技术方面遇到技术难题而数度后延了投入量产使用的时间，甚至有可能错失在1xnm节点被启用的大好时机。
另：有关EUV与EUV光源发展现状的更多信息，读者还可阅读这篇文章了解。
CNBeta编译
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